класифікація
- Обладнання для вакуумної термообробки
- Порошкова металургія Промислове опалювальне обладнання
- C & SiC Composites Промислове опалювальне обладнання
- Устаткування для виробництва порошку для розпилення
- Новий матеріал
- Обладнання для термічного піролізу органічних твердих відходів
- Вуглецевий матеріал високої чистоти та графітовий компонент із покриттям
Зв'язатися з нами
+86-151 7315 3690 (Jessie Mobile)
Індустріальний парк ACME Xingsha, East Liangtang Rd. , місто Чанша, провінція Хунань
CVD-піч (SiC 、 BN)
Furnace used for anti-oxidation coating, matrix material character change and etc. by using Silicohydride gas source. It has both horizontal and vertical structures.
Запит
- Технічні характеристики
- Пов’язана необов’язкова конфігурація
опис
Furnace used for anti-oxidation coating, matrix material character change and etc. by using Silicohydride gas source. It has both horizontal and vertical structures.
Застосування:SiC coating for C/C composite material, SiC coating for graphite, SiC, BN and ZrC coating for fiber and etc.
Технічні характеристики CVD піч
ModelSpec | Розмір робочої зони (Ш × В × Д) (мм) | Макс. Температура (°C) | Рівномірність температури (° C) | Максимальний вакуум (Па) | Швидкість підвищення тиску (Па/год) |
HCVD-060609-SiC | 600 × 600 × 900 | 1500 | ± 7.5 | 1-100 | 0.67 |
HCVD-101015-SiC | 1000 × 1000 × 1500 | 1500 | ± 7.5 | 1-100 | 0.67 |
HCVD-121220-SiC | 1200 × 1200 × 2000 | 1500 | ± 10 | 1-100 | 0.67 |
HCVD-151530-SiC | 1500 × 1500 × 3000 | 1500 | ± 10 | 1-100 | 0.67 |
HCVD-252035-SiC | 2500 × 2000 × 3500 | 1500 | ± 10 | 1-100 | 0.67 |
VCVD-0305-SiC | φ300 × 500 | 1500 | ± 5 | 1-100 | 0.67 |
VCVD-0608-SiC | φ600 × 800 | 1500 | ± 7.5 | 1-100 | 0.67 |
VCVD-0812-SiC | φ800 × 1200 | 1500 | ± 7.5 | 1-100 | 0.67 |
VCVD-1120-SiC | φ1100 × 2000 | 1500 | ± 10 | 1-100 | 0.67 |
VCVD-2632-SiC | φ2600 × 3200 | 1500 | ± 10 | 1-100 | 0.67 |
Вищевказані параметри можна пристосувати до вимог процесу, вони не є стандартом прийняття, детальна специфікація. буде зазначено в технічній пропозиції та угодах. |
Технічні характеристики
1. Using the most advanced control technology, it can precise control the MTS flow and pressure, the deposition flow is stable and pressure fluctuate in narrow range;
2. Special designed deposition chamber with good sealing effect and great anti-contamination performance;
3. Using multiple deposition channels with uniformity gas flow, without deposition dead corner and perfect deposition surface;
4. It has treatment for the high corrosive gas, flammable and explosive gas , solid dust and low melting point sticky materials during the deposition process;
5. Using newly designed corrosion resistant vacuum pump which has long continuous working hours and low maintenance rate.
Optional Configuration of CVD Furnace
1. Furnace door: screw/hydraulic/manual elevation type;swing opening/parallel opening(large size furnace door); manual tight/ auto lock-ring tight
2. Furnace vessel: all carbon steel/inner layer stainless steel/all stainless steel
3. Furnace hot zone: soft carbon felt/soft graphite felt/rigid composite felt/CFC
4. Heating element and muffle: isostatic press graphite/high purity, strength and density graphite/fine size graphite
5. Система технологічного газу: об'ємно-масовий витратомір
6.Thermocouple: K type/N type/C type/S type