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Horno CVD (SiC 、 BN)

Horno CVD (SiC 、 BN)

Furnace used for anti-oxidation coating, matrix material character change and etc. by using Silicohydride gas source. It has both horizontal and vertical structures.
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  • Características técnicas
  • Configuración opcional relacionada

Descripción
Furnace used for anti-oxidation coating, matrix material character change and etc. by using Silicohydride gas source. It has both horizontal and vertical structures.

Aplicación: SiC coating for C/C composite material, SiC coating for graphite, SiC,  BN and ZrC coating for fiber and etc.

Características técnicas
1. Using the most advanced control technology, it can precise control the MTS flow and pressure, the deposition flow is stable and pressure fluctuate in narrow range;

2. Special designed deposition chamber with good sealing effect and great anti-contamination performance;

3. Using multiple deposition channels with uniformity gas flow, without deposition dead corner and perfect deposition surface;

4. It has treatment for the high corrosive gas, flammable and explosive gas , solid dust and low melting point sticky materials during the deposition process;

5. Using newly designed corrosion resistant vacuum pump which has long continuous working hours and low maintenance rate.

Optional Configuration of CVD Furnace

1. Furnace door: screw/hydraulic/manual elevation type;swing opening/parallel opening(large size furnace door); manual tight/ auto lock-ring tight

2. Furnace vessel: all carbon steel/inner layer stainless steel/all stainless steel

3. Furnace hot zone: soft carbon felt/soft graphite felt/rigid composite felt/CFC

4. Heating element and muffle: isostatic press graphite/high purity, strength and density graphite/fine size graphite

5. Process gas system: volume/mass flow-meter

6.Thermocouple: K type/N type/C type/S type

Specifications of CVD Furnace


ModelSpec

Tamaño de la zona de trabajo

 (Ancho × alto × largo) (mm)

Max. Temperatura (° C)Uniformidad de temperatura (° C)Vacío máximo (Pa)Tasa de aumento de presión (Pa / h)
HCVD-060609-SiC× × 600 600 9001500± 7.51-1000.67
HCVD-101015-SiC× × 1000 1000 15001500± 7.51-1000.67
HCVD-121220-SiC1200 1200 × × 20001500± 101-1000.67
HCVD-151530-SiC1500 1500 × × 30001500± 101-1000.67
HCVD-252035-SiC
2500 2000 × × 35001500± 101-1000.67

VCVD-0305-SiCΦ300 × 5001500± 51-1000.67
VCVD-0608-SiCΦ600 × 8001500± 7.51-1000.67
VCVD-0812-SiCΦ800 × 12001500± 7.51-1000.67
VCVD-1120-SiCΦ1100 × 20001500± 101-1000.67
VCVD-2632-SiCΦ2600 × 32001500± 101-1000.67
Los parámetros anteriores se pueden ajustar a los requisitos del proceso, no son como estándar de aceptación, la especificación detallada. se indicará en la propuesta técnica y los acuerdos.
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