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Vakuumsinterofen (SiC/Si3N4/AlN)

Vakuumsinterofen (SiC/Si3N4/AlN)

Der Ofen wird zum Reaktionssintern, Niederdrucksintern, Rekristallsintern von Keramikprodukten und auch zur Herstellung von Keramikpulver verwendet. Es hat sowohl horizontale als auch vertikale Strukturen.

ANFRAGE
  • Technische Eigenschaften
  • Zugehörige optionale Konfiguration

Produktbeschreibung
Der Ofen wird zum Reaktionssintern, Niederdrucksintern, Rekristallsintern von Keramikprodukten und auch zur Herstellung von Keramikpulver verwendet. Es hat sowohl horizontale als auch vertikale Strukturen.

Application: Ceramic products such as SiC, silicon nitride and aluminum nitride.

Technische Eigenschaften

1.Using unique ACME super high temperature and high current power supply technology, it can long term stable use at high temperature;

2.Using spezielle entworfene Hochtemperaturpyrometermesstechnik mit Präzisionstemperaturkontrolle und kleiner Abweichung;

3.Installed with special sealing muffle to minimize the silicon vapor and exhaust gas contamination to the heating element and insulation;

4.Installed high efficiency exhaust gas treatment device , which is environment-friendly and convenient to clean;

5.It has debinding system, to complete debinding and sintering process in one furnace at one time.

Optional Configuration of Vacuum Sintering Furnace

1.Furnace door: screw/hydraulic/manual elevation; manual tight/auto lock-ring tight

2.Ofenbehälter: ganzer Kohlenstoffstahl/Edelstahl der inneren Schicht/alles Edelstahl

3.Ofen heiße Zone: weicher Kohlenstofffilz/weicher Graphitfilz/starre Verbundplatte/FCKW

4.Heizelement und Muffel: isostatischer Pressgraphit / hochreiner, fester und dichter Graphit / feinkörniger Graphit

5.Process gas system: volume/mass flow-meter; manual/auto valve;

6.Thermocouple: C type/S type/R type/B type

7.Pyro-meter:Dual-color/Single color; CHINO/Raytek

Specifications of Vacuum Sintering Furnace


Modellspezifikation

Arbeitsbereichsgröße 

(B×H×L) (mm)

max. Temperatur (°C)Temperaturgleichmäßigkeit (°C)Ultimatives Vakuum (Pa)Druckerhöhungsrate (Pa/h)
HVSF-050511500 × 500 × 11001900 / 2400± 51-1000.67
HVSF-060612600 × 600 × 12001900 / 2400± 51-1000.67
HVSF-1006121000 × 600 × 12001900 / 2400± 101-1000.67
HVSF-1008251000 × 800 × 25001900 / 2400± 101-1000.67
HVSF-1008401000 × 800 × 40001900 / 2400± 101-1000.67

VVSF-0612φ600 × 12001900 / 2400± 7.51-1000.67
VVSF-0918φ900 × 18001900 / 2400
± 101-1000.67
VVSF-1120φ1100 × 20001900 / 2400± 101-1000.67
Die oben genannten Parameter können an die Prozessanforderungen angepasst werden, sie gelten nicht als Akzeptanzstandard, die Detailspezifikation. werden im technischen Angebot und in den Vereinbarungen angegeben.
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