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CVD-Ofen (SiC、BN)

CVD-Ofen (SiC、BN)

Furnace used for anti-oxidation coating, matrix material character change and etc. by using Silicohydride gas source. It has both horizontal and vertical structures.
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  • Technische Eigenschaften
  • Zugehörige optionale Konfiguration

Produktbeschreibung
Furnace used for anti-oxidation coating, matrix material character change and etc. by using Silicohydride gas source. It has both horizontal and vertical structures.

Anwendung: SiC coating for C/C composite material, SiC coating for graphite, SiC,  BN and ZrC coating for fiber and etc.

Technische Eigenschaften
1. Using the most advanced control technology, it can precise control the MTS flow and pressure, the deposition flow is stable and pressure fluctuate in narrow range;

2. Special designed deposition chamber with good sealing effect and great anti-contamination performance;

3. Using multiple deposition channels with uniformity gas flow, without deposition dead corner and perfect deposition surface;

4. It has treatment for the high corrosive gas, flammable and explosive gas , solid dust and low melting point sticky materials during the deposition process;

5. Using newly designed corrosion resistant vacuum pump which has long continuous working hours and low maintenance rate.

Optionale Konfiguration des CVD-Ofens

1. Furnace door: screw/hydraulic/manual elevation type;swing opening/parallel opening(large size furnace door); manual tight/ auto lock-ring tight

2. Furnace vessel: all carbon steel/inner layer stainless steel/all stainless steel

3. Furnace hot zone: soft carbon felt/soft graphite felt/rigid composite felt/CFC

4. Heating element and muffle: isostatic press graphite/high purity, strength and density graphite/fine size graphite

5. Process gas system: volume/mass flow-meter

6.Thermocouple: K type/N type/C type/S type

Spezifikationen des CVD-Ofens


Modellspezifikation

Arbeitsbereichsgröße

 (B × H × L) (mm)

max. Temperatur (°C)Temperaturgleichmäßigkeit (°C)Ultimatives Vakuum (Pa)Druckerhöhungsrate (Pa/h)
HCVD-060609-SiC600 × 600 × 9001500± 7.51-1000.67
HCVD-101015-SiC1000 × 1000 × 15001500± 7.51-1000.67
HCVD-121220-SiC1200 × 1200 × 20001500± 101-1000.67
HCVD-151530-SiC1500 × 1500 × 30001500± 101-1000.67
HCVD-252035-SiC
2500 × 2000 × 35001500± 101-1000.67

VCVD-0305-SiCφ300 × 5001500± 51-1000.67
VCVD-0608-SiCφ600 × 8001500± 7.51-1000.67
VCVD-0812-SiCφ800 × 12001500± 7.51-1000.67
VCVD-1120-SiCφ1100 × 20001500± 101-1000.67
VCVD-2632-SiCφ2600 × 32001500± 101-1000.67
Die oben genannten Parameter können an die Prozessanforderungen angepasst werden, sie gelten nicht als Akzeptanzstandard, die Detailspezifikation. werden im technischen Angebot und in den Vereinbarungen angegeben.
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